项目名称：半导体材料生产控温

使用设备型号：反应釜防爆模温机

在光刻胶的生产过程中，需要维持温度在150摄氏度，同时由于反应过程中会产生热量，因此需要适时进行冷却以确保生产过程稳定。控温的对象是反应釜中的光刻胶。在光刻胶的生产过程中，温度是关键参数之一，对产品质量和产能都有影响。

反应釜防爆模温机拥有6KW的功率，整机采用隔离式防爆设计（EXdII BT4），具备PLC编程控制功能，同时带有冷却系统，其中包括1平方的板式换热器。

反应釜防爆模温机的高温稳定性和防爆设计为客户的生产带来了效率提高。光刻胶的生产过程现在更加可靠，产品质量得到了提高，产能也有了显著的提高。